光路对准分五步：基准找正、同轴检查、光斑居中、工作距离确认、热态复校。判据是热态复校时光斑中心仍落在冷态靶纸标记圈内，五步缺一步，光强读数就不可复现。
基准找正决定后面四步的上限，光学平台与灯室没摆平，任何精细调节都是在错误的坐标里做微调。
先检查光学平台是否水平、是否有明显挠曲，再把灯室与反应器支架分别固定在同一平台上。氙灯（Xenon Lamp）灯室内有反射镜，整机重心偏高，脚轮未锁死时轻微碰撞就会让光轴偏几毫米，而几毫米在近距离光路上放大的角度误差相当可观。
基准一旦确定，在平台上用记号笔或胶带标出灯室前脚、反应器支架后脚的位置。以后只要地面标记还在，复位就有参照，不必每次从零开始找。
同轴检查的目标是让灯室出光口中心、光斑中心、反应器窗口中心三点共线，最省事的做法是双孔法。
取两块带小孔的不透光挡板，一块贴在灯室出光口，一块贴在反应器窗口位置，孔心对齐后用一张白纸在中间滑动观察：若光斑在两孔之间始终居中通过，说明基本同轴；若光斑偏向一侧，说明两点不等高或存在水平偏斜。
同轴偏差最典型的表现是「怎么调都不均匀」——光斑一侧亮一侧暗，且移动距离无法改善。这时不要继续拧调节机构，回到等高与平行两项上重查。
光轴与窗口法线不平行还有第二个代价：窗口反射损失随入射角增大而上升，实测光强会低于同距离正入射的预期值，做量子效率换算时这个偏差会被算进材料性能里。
光斑居中的判据是光斑中心与窗口中心重合、光斑完整覆盖窗口且不溢出到金属法兰。
取下反应器，在窗口平面贴靶纸，画下光斑轮廓与中心点，作为后续所有复校的比对基准。溢出到法兰的部分不参与反应，只贡献发热：它会让法兰温度升高，进而改变密封件状态与液相温度，长时实验里这是隐性漂移源。
光斑小于窗口时可以接受，但要在记录里写清有效受光面积，否则光强密度换算会偏。需要改变光斑大小时，按光斑调节的方式调整，不要用移动整机的办法凑尺寸——移动整机会同步破坏已经做好的同轴。
工作距离不存在唯一正确值，它由光强需求与光斑均匀性共同决定，距离越近光强越高，均匀性越差。
确定距离的方法是从远到近逐步靠近，每靠近一档测一次光强并记一次光斑照片，直到光强满足实验要求且光斑边缘不发虚为止。边缘发虚意味着光斑已经超出该距离下的有效辐照区，再靠近只会让中心过曝、边缘更暗。
做大面积均匀辐照或模拟太阳光（AM1.5G）相关实验时，距离与均匀性的关系更敏感，可参考模拟太阳光AM1.5G中对光谱匹配与辐照均匀性的说明，不要只盯中心点光强。
距离值一旦确定就固化：写进 SOP，量好并记录，用限位块或标尺定位，不要每次靠目测重设。
热态复校是最容易被跳过的一步，却是唯一能发现「冷态对、热态偏」的手段。
| 步骤 | 检查方法 | 通过判据 | 不做会怎样 |
|---|---|---|---|
| 1 基准找正 | 水平检查、脚轮锁定、地面标记 | 平台无挠曲，位置可复位 | 每次开机光路都不同 |
| 2 同轴检查 | 双孔法 + 白纸滑移观察 | 光斑在两孔间居中通过 | 光斑偏侧、怎么调都不均 |
| 3 光斑居中 | 靶纸画圈、拍照存档 | 中心重合，覆盖窗口不溢出 | 法兰发热、密封件漂移 |
| 4 工作距离 | 逐档靠近，同步测光强 | 光强达标且边缘不发虚 | 中心过曝、边缘照度不足 |
| 5 热态复校 | 预热 10–15 分钟后重贴靶纸 | 光斑中心仍在冷态圈内 | 长时实验光强缓慢下滑 |
热态复校要等灯室温度稳定后再做，通常与预热 10–15 分钟同步完成。金属件受热膨胀会让光轴产生微小位移，冷态对准得再好，热态仍可能偏出靶纸圈。偏出就重新微调并再次确认，而不是等实验结束再补。
多半是均匀性而非居中的问题。检查光斑是否明显大于窗口导致边缘溢出、工作距离是否过近使中心过曝，并用靶纸拍照比对两次装夹后的光斑位置是否一致。
可以，但要按网格多点测量。单点读数只能证明该点有光，证明不了居中与均匀；网格测法能看出光强分布形态，成本比靶纸高，信息也更完整。测量方法见光功率计与光强计。
需要。窗口直径、法兰厚度、光窗材质任何一项变化都会改变合适的工作距离，五步里第 3 至第 5 步必须重做，第 1、2 步若平台未动可复用。
